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一、主要技術(shù)要求：

1）工作室尺寸：D×W×H≥ 450×1100×500

2）支援樣板數(shù)量：150×75mm約40塊

3）溫度范圍： RT＋10℃～70℃　

4）濕度范圍： ≥95％R.H

5）濕度均勻度：±2%以內(nèi)

6）溫度均勻度：±2℃以內(nèi)

7）濕度波動度：±2%以內(nèi)

8）樣品與燈管距離：50mm

9）紫外波長： 290nm～400nmUV-A

10）燈管功率： 40W

11）水槽水深要求：自動控制

12）黑板溫度：40℃～65℃

13）試驗時間：0-999H可調(diào)

14）設(shè)備需要具有噴淋功能

15）溫度控制器： 采用臺灣臺達觸控式熒幕控制器+日本三菱PLC控制系統(tǒng)；

16）時間控制器：采用日本歐母龍時間計算機集成控制器  

17）光照加熱系統(tǒng)： 全獨立系統(tǒng)，鎳鉻合金電加熱式加熱器

18）凝露加濕系統(tǒng)： 全不銹鋼淺表面蒸發(fā)式加濕器

19）黑板溫度： 雙金屬黑板溫度計

20）供水系統(tǒng)： 加濕供水采用自動控制

21）暴露方式： 濕汽冷凝暴露，光照輻射暴露

22）安全保護：　漏電、短路、超溫、缺水、過電流保護/控制器停電記憶